蒸鍍靶材

在物理氣相沉積 (PVD) 製程中使用的材料，透過高功率的電子束或離子束將其加熱至高溫
使其蒸發並在基材表面沉積形成薄膜。以下是我們提供高純度蒸鍍靶材材料

銅 (Copper)
鉻 (Chromium)
鋁 (Aluminum)
鈦 (Titanium)
鎳 (Nickel)
鐵 (Iron)
金 (Gold)
銀 (Silver)
鈷 (Cobalt)
錫 (Tin)
鋅 (Zinc)
銦錫 (Indium Tin)
銦 (Indium)
鈷鉑 (Cobalt Platinum)
鎢 (Tungsten)
鈷鎳鉻 (Cobalt Nickel Chromium)
鈦鋁 (Titanium Aluminum)
鈦鉬 (Titanium Molybdenum)
銅鈦 (Copper Titanium)

還可以提供與其他材料混合使用，例如銅鋁混合靶材可用於製作銅鋁合金薄膜，請訊息洽詢。