濺鍍靶材

在物理氣相沉積 (PVD) 製程中使用的材料，透過高功率的電子束或離子束加熱靶材，使其表面的原子或分子脫離，並在基材表面沉積形成薄膜。以下是我們提供高純度濺鍍靶材材料：

鉻 (Chromium)
鉬 (Molybdenum)
鈦 (Titanium)
鋁 (Aluminum)
銅 (Copper)
銀 (Silver)
金 (Gold)
鈀 (Palladium)
鋅 (Zinc)
鐵 (Iron)
鎳 (Nickel)
銅鎳 (Copper Nickel)
銅鋁 (Copper Aluminum)
鈦鋁 (Titanium Aluminum)
鉬鋁 (Molybdenum Aluminum)
鉬鈦 (Molybdenum Titanium)
銅鈦 (Copper Titanium)
氧化鋅 (Zinc Oxide)
氧化鋁 (Aluminum Oxide)

還可以提供與其他材料混合使用，請訊息洽詢。