Wet Cleaning

NANO-MASTER的Megasonic單晶片和光罩清潔機提供可重複、均勻和最先進的Megasonic清潔技術。我們將專利的無損Megasonic清潔、化學清潔、刷子清潔和乾燥合併為一個步驟進行。

為了實現最大的清潔優化效果，必須保持Megasonic能量密度在樣品任何點略低於損壞閾值。NANO-MASTER的專利技術確保聲能在樣品表面均勻分佈，從而通過最大化分佈的能量並保持在樣品損壞閾值以下，實現理想的清潔效果。

根據應用的不同，某些選項將進一步增強工具去除不需要的顆粒和殘留物的能力。