EM-KLEEN Remote In-situ Plasma Cleaner for SEM, FIB, XPS, SIMS, AES systems
◆ EM-KLEEN in-situ remote plasma cleaner可用於電子顯微鏡和其他類型分析儀器(如 SEM、FIB、TEM、XPS 和 SIMS)的樣品和真空室的即時清洗
◆ 能有效去除高真空或超高真空室內的碳氫化合物及氟碳化合物污染物,並提高極限真空度,並減少抽氣時間。
◆ 可以在表面成像和分析之前去除樣品表面的有機污染物。
◆ 該系統由具有電阻式液晶觸控螢幕控制器的嵌入式微型計算機和遠端電漿源組成。
◆ 尺寸較小,但整合了Pirani壓力感測器、電子可變氣體流量控制器、電漿強度感測器、溫度感測器和冷卻風扇。
◆ 控制器可儲存多達 60 個具有不同rf power、工作壓力、氣體流量率和清潔持續時間的配方。
◆ 能有效去除高真空或超高真空室內的碳氫化合物及氟碳化合物污染物,並提高極限真空度,並減少抽氣時間。
◆ 可以在表面成像和分析之前去除樣品表面的有機污染物。
◆ 該系統由具有電阻式液晶觸控螢幕控制器的嵌入式微型計算機和遠端電漿源組成。
◆ 尺寸較小,但整合了Pirani壓力感測器、電子可變氣體流量控制器、電漿強度感測器、溫度感測器和冷卻風扇。
◆ 控制器可儲存多達 60 個具有不同rf power、工作壓力、氣體流量率和清潔持續時間的配方。
◆ 採用石英源體的電感耦合電漿源設計。市場同類產品中清潔速度最快。
◆ 在極低的壓力下即時電漿點火,無需手動調整旋鈕即可在 EM-KLEEN 上點燃電漿。
◆ 電子氣體流量控制器可以自動調節氣體流量率以達到配方規定的操作壓力,無需調節旋鈕即可改變氣體流量率。
◆ 電漿強度感測器,當使用者調整rf power和工作壓力時提供即時回饋,幫助控制器了解電漿狀態,提供全自動調節。
◆ 在極低的壓力下即時電漿點火,無需手動調整旋鈕即可在 EM-KLEEN 上點燃電漿。
◆ 電子氣體流量控制器可以自動調節氣體流量率以達到配方規定的操作壓力,無需調節旋鈕即可改變氣體流量率。
◆ 電漿強度感測器,當使用者調整rf power和工作壓力時提供即時回饋,幫助控制器了解電漿狀態,提供全自動調節。
◆ The standard vacuum interface port:NW/KF40 flange,提供適用於不同 SEM ports:CF2.75″ flange。
◆ 0-75Watt rf power at 13.56MHz。rf power以1-watt為間隔進行調整。
◆ 具有觸控螢幕使用者介面的微型電腦。
◆ 透過 RS232/RS485 protocol 的直覺遠端 PC 控制使用者介面。
◆ 智慧“Safe operation mode”和“Expert operation mode”,帶有用戶可自訂警告訊息。
◆ 主動風扇冷卻。
◆ 超溫互鎖保護。
◆ 易於攜帶的控制器,該系統可以在不同系統之間輕鬆移動。
◆ 0-75Watt rf power at 13.56MHz。rf power以1-watt為間隔進行調整。
◆ 具有觸控螢幕使用者介面的微型電腦。
◆ 透過 RS232/RS485 protocol 的直覺遠端 PC 控制使用者介面。
◆ 智慧“Safe operation mode”和“Expert operation mode”,帶有用戶可自訂警告訊息。
◆ 主動風扇冷卻。
◆ 超溫互鎖保護。
◆ 易於攜帶的控制器,該系統可以在不同系統之間輕鬆移動。