SEMI-KLEEN Downstream Plasma Cleaner（Semi-KLEEN Quartz）

◆ SEMI-KLEEN Quartz remote plasma source可用於electron beam review systems (EBR)、electron beam inspection systems (EBI)、CD-SEM、electron beam lithography systems, EUV lithography (EUVL)、EUV mask inspectors。
◆ 標準 SEMI-KLEEN plasma cleaner 使用外部天線的高純度石英管。它可用於在低壓下產生空氣、O2、Ar+O2、H2 和 Ar+H2 電漿
◆ 專有的天線設計降低了電漿電位，從而減少了腔體離子濺鍍。
◆ 腔室材料經過精心挑選，能夠承受電漿蝕刻。結合專有的雙級粒子過濾技術，能滿足 Intel、Samsung 和 TSMC 等客戶最嚴格的 PWP 要求。