半導體設備及耗材

NANO-MASTER 的 DRIE 系統採用平面 ICP 源以產生高密度電漿。我們的系統能夠應用於 Cryo etch 和 Bosch 等製程，可以在晶圓上製造高深寬比的深入、陡 ...

Plasma Ashing Systems
ANO-MASTER的電漿清潔和灰化系統旨在滿足從晶圓去除膠片到批量和單晶片載入表面改質的廣泛需求。這些由PC控制的系統具有各種電漿源、加 ...

◆ EM-KLEEN in-situ remote plasma cleaner可用於電子顯微鏡和其他類型分析儀器（如 SEM、FIB、TEM、XPS 和 SIMS）的樣品和真空室 ...

Material : Rhenium 99.9%
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NANO-MASTER 開發了世界上第一個桌面型電漿輔助金屬有機化學氣相沉積 (PA-MOCVD) 系統，用於 GaN、InGaN 和 AlGaN 沉積過程。在這種獨特的系統中，使 ...

◆ SEMI-KLEEN Quartz remote plasma source可用於electron beam review systems (EBR)、electron bea ...

SEMI-KLEEN sapphire remote plasma cleaner 設計用於支撐腐蝕性製程氣體，電漿腔體已被更耐化學腐蝕的藍寶石管取代。真空密封設計和腔室材料選擇已 ...

SEMI-KLEEN UHV remote plasma cleaner 是 SEMI-KLEEN 系列電漿清潔器的特殊版本，適用於超高真空 (UHV) 室和樣品清潔應用。

典型應用：
◆ Wire bonding, flip-chip underfill, device encapsulation, and decapsulation ...

Tergeo-EM plasma cleaner可滿足所有要求，從高速清洗電子光學鏡筒中嚴重污染的孔徑和電極，到溫和清洗石墨烯、碳奈米管、DLC（類鑽石碳）、碳纖維或在多孔碳網格上 ...

和Tergeo電漿清洗機差別是樣品室大小和rf power，Tergeo-plus可以容納較大的樣品。
典型應用： ...