半導體設備及耗材

比起Tergeo-Plus樣品室直徑和深度皆增加，RF power則相同。
典型應用： ...

NANO-MASTER的Megasonic單晶片和光罩清潔機提供可重複、均勻和最先進的Megasonic清潔技術。我們將專利的無損Megasonic清潔、化學清潔、刷子清潔和乾燥合 ...

提供CVD和PECVD系統，例如二氧化矽 (SiO2)、氮化矽 (Si3N4)、氧化鋁 (Al2O3)，高純度材料。

NANO-MASTER的NRE-4000是一個獨立的反應離子蝕刻（RIE）系統，具有淋浴頭氣體分布和水冷的RF基板。它具有不鏽鋼櫃和一個從頂部打開的13英寸圓柱形鋁腔，可載入高達8 ...

半導體真空管件通常由高純度的材料製成，具有高度的真空密封性能和化學穩定性，以避免對半導體製程產生不良影響。
提供不同需求真空管件包括：真空閥門（Vacuum Valves）真空法蘭 ...

NLD-4000是一款獨立的PC控制ALD系統，具有全自動化和安全互鎖功能，可用於半導體、光伏和MEMS應用中沉積氧化物和氮化物（例如AlN、GaN、TaN、TiN、Al2O3、Z ...

1.光阻劑 (Photoresist)
2.聚酰亞胺 (Polyimide)：用於製作軟性電子元件和柔性顯示器等。 ...

電子束蒸發系統提供兩種不同的配置:
垂直雙室配置具有壓板所在的 14" 立方體主室，主室下方提供用於容納電子束源的輔助室。這種配置可以在兩個室之間提供閘閥，作用負載鎖定，從主室裝載和 ...

PECVD系統能夠沉積高品質的SiO2、Si3N4、CNT、DLC或SiC薄膜。根據應用，可使用RF噴頭、中空陰極、ICP或微波電漿源。
平臺可以容納高達8英寸的晶圓，並可以通過RF ...

在物理氣相沉積 (PVD) 製程中使用的材料，透過高功率的電子束或離子束將其加熱至高溫
使其蒸發並在基材表面沉積形成薄膜。以下是我們提供高純度蒸鍍靶材材料 ...

NANO-MASTER的NTE-3000是一個PC控制的桌上型熱蒸鍍系統，廣泛應用於有機和金屬蒸鍍。它是一個2kVA系統，利用SCR電路進行準確的溫度控制，這在蒸鍍有機材料時非常重 ...

最先進濺鍍系統可使用各種腔體和源配置，以在直徑高達200毫米的基板上沉積金屬和介電薄膜。系統可配備直流、射頻和脈衝直流電源，實現連續或共濺鍍。系統配備渦輪分子泵套件，可實現5x10 ...