蝕刻製程(Etching)

第 1 到 3 筆。共 3 筆。
DRIE Systems
NANO-MASTER 的 DRIE 系統採用平面 ICP 源以產生高密度電漿。我們的系統能夠應用於 Cryo etch 和 Bosch 等製程,可以在晶圓上製造高深寬比的深入、陡 ...
反應離子蝕刻系統(RIE Systems)
NANO-MASTER的NRE-4000是一個獨立的反應離子蝕刻(RIE)系統,具有淋浴頭氣體分布和水冷的RF基板。它具有不鏽鋼櫃和一個從頂部打開的13英寸圓柱形鋁腔,可載入高達8 ...
離子束研磨拋光系統(Ion Beam Milling Systems)
NANO-MASTER的離子束研磨拋光系統為全自動化的系統,提供易用性,高重復性和可靠的性能,具有極好的均勻性。
各種樣品夾和離子源配置可進行各種不同的應用。NANO-MASTER離 ...