後端電漿清潔設備（Downstream Plasma Cleaners）
SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列電漿清洗機為 SEM、FIB、AES、XPS、ALD、EUVL 等高真空系統中的污染控制提供溫和的電漿清潔方式，它由控制器和遠端電漿源組成。遠端電漿清洗機可同時清潔真空系統和樣品，可支撐侵蝕性且有時具有腐蝕性的電漿，例如 H2、NF3、CF4、NH3。
EM-KLEEN Remote In-situ Plasma Cleaner for SEM, FIB, XPS, SIMS, AES systems
◆ EM-KLEEN in-situ remote plasma cleaner可用於電子顯微鏡和其他類型分析儀器（如 SEM、FIB、TEM、XPS 和 SIMS）的樣品和真空室 ...
SEMI-KLEEN Downstream Plasma Cleaner（Semi-KLEEN Quartz）
◆ SEMI-KLEEN Quartz remote plasma source可用於electron beam review systems (EBR)、electron bea ...
SEMI-KLEEN Sapphire Plasma Cleaner
SEMI-KLEEN sapphire remote plasma cleaner 設計用於支撐腐蝕性製程氣體，電漿腔體已被更耐化學腐蝕的藍寶石管取代。真空密封設計和腔室材料選擇已 ...
SEMI-KLEEN UHV Plasma Cleaner
SEMI-KLEEN UHV remote plasma cleaner 是 SEMI-KLEEN 系列電漿清潔器的特殊版本，適用於超高真空 (UHV) 室和樣品清潔應用。